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    紫外線清潔技術的應用範圍

    文章出處:未知責任編輯:91视频看片软件下载科技人氣:發表時間:2020-11-05 09:54
    紫外線清潔技術的應用主要用於液晶顯示設備,半導體矽片,集成電路,高精度印刷電路板,光學設備,石英晶體,密封技術以及帶有氧化膜的金屬材料的生產過程中。 適當。

    主要材料:ITO玻璃,光學玻璃,鉻板,掩模板,拋光的石英晶體,矽片和帶有氧化膜的金屬等,用於精密清潔。

    可以去除汙垢:有機汙垢,人體皮脂,化妝品油,樹脂添加劑,聚酰亞胺,石蠟,鬆香,潤滑油,殘留的光致抗蝕劑等。

    此UV光源具有UV改性的特性 (LCD的表麵質量變化)。 目前,在LCD STN的生產過程中,它主要用於薄膜加工技術中。 薄膜之間的粘合非常有效,例如ITO薄膜和光敏薄膜層,TOP塗層和PI塗層等。此外,它還可以用於UV改性塑料材料產品的研究部門進行納米技術研究。 紫外線照射後,產品會發生化學反應,從而改變產品的表麵性能。 在STN-LCD,彩色濾光片和OLED的生產過程中,某些過程設備相當相似,不同之處在於不同的製造過程要求。 隨著電路的細化和產品的色彩比例的提高,LCD行業對製造工藝的要求也在不斷提高,並且對“想做得好,必須先提高其工具的工人”的需求不斷提高,因此隻有設備能力不斷提高 改善。 為了提高生產質量和效率。

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